Противник больше не сможет поставить "закладки" в микросхемы, используемые в российском вооружении

Сверхбольшие интегральные схемы (СБИС), системы на кристалле (СНК) и микросистемы (МСТ) являются основой для создания информационно-коммуникационных систем, а также систем автоматического управления.  Именно эти изделия определяют потребительские характеристики современной высокотехнологичной продукции, включая продукцию специального применения. Для изготовления СБИС, СНК и МСТ требуются фотошаблоны, с помощью которых формируется топологический рисунок отдельных элементов и их взаимного расположения. Фотошаблоны являются материальным носителем конструктивно-технологической информации, которая представляет собой интеллектуальную собственность разработчика топологии и подлежит патентованию.

Сегодня большинство отечественных разработчиков СБИС, СНК и МСТ заказывают изготовление этих изделий, а, следовательно, и фотошаблонов на иностранных контрактных производствах, в том числе и при выполнении государственного оборонного заказа.

При размещении заказа на иностранных производствах существует угроза несанкционированного копирования фотошаблонов, что нарушает авторские права разработчиков и обесценивает интеллектуальный продукт РФ, а также есть возможность внесения несанкционированных изменений в топологию фотошаблонов, что несет прямую угрозу обороноспособности государства, так как данные изменения (так называемые «закладки») позволяют дистанционно влиять на режим работы электронных систем.

Центр фотошаблонов (ЦФШ) позволяет разработчикам заказывать собственные фотошаблоны без обращения к иностранному производителю, а также  предоставляет услуги по обеспечению информационной безопасности при работе с иностранными контрактными производствами.



Необходимые операции с данными, такие как: масштабирование, булевы операции, фазовая коррекция, геометрическая коррекция, задание технологических припусков и другие, выполняются при помощи программно-аппаратного комплекса на базе современных САПР, что позволяет производить обработку входных данных в форматах DXF, GDSII, OASIS.

Проектирование дизайна фотошаблона включает в себя преобразование и компоновку исходных данных заказчика в соответствии с техническими требованиями, а также добавление служебных, тестовых и других специальных элементов.
В процессе проектирования дизайна фотошаблонов проводится проверка исходной информации в соответствии с правилами проектирования, проводится фрагментация данных, при необходимости применяется полнофункциональная система коррекции эффектов оптической близости, генерируется выходная информация. На окончательном этапе полученные данные подвергаются преобразованию (конвертации) в управляющую информацию для генераторов изображения.



Центр фотошаблонов (ЦФШ) является базовым инфраструктурным элементом межотраслевой системы проектирования, создаваемой в виде многоуровневой структуры дизайн-центров на аппаратурных предприятиях Минпромторга России, Госкорпорации «Роскосмос», Госкорпорации «Росатом» и вузах.
Инициатором проекта является ОАО «Росэлектроника», которое ставит своей целью объединение усилий заинтересованных в проекте отечественных и зарубежных игроков электронного рынка России. Такими партнерами являются Московский государственный институт электронной техники (МИЭТ), Зеленоградский инновационно-технологический центр, Cadence,  Compugraphics, Synopsys, Leica и Zeiss.
ОАО «Росэлектроника» выполняет проект по созданию высокотехнологичного научно-производственного комплекса межотраслевого центра проектирования, каталогизации и изготовления фотошаблонов. Проект реализуется в рамках Федеральной целевой программы «Развитие электронной компонентной базы и радиоэлектроники» на 2008-2015 годы.

ЦФШ расположен на территории особой экономической зоны Зеленоградского АО г. Москвы и состоит из климатического комплекса, инфраструктуры инженерного обеспечения, чистых вспомогательных помещений и чистых производственных помещений. Проектирование дизайна фотошаблона включает в себя преобразование и компоновку исходных данных заказчика в соответствии с техническими требованиями, а также добавление служебных, тестовых и других специальных элементов.